6 月 18 日消息，據 Etnews 報道，三星電子正在考慮將其美國得克薩斯州泰勒工廠的工藝制程從 4 納米改為 2 納米，以加強與臺積電美國廠和英特爾的競爭。消息人士稱，三星電子最快將于第三季度做出最終決定。
▲ 三星電子泰勒工廠建設工地（圖源：三星電子）
三星電子泰勒工廠投資于 2021 年，次年開始建設，計劃于 2024 年底開始分階段運營。三星電子 DS 部門前負責人 Lee Bong-hyun 曾表示，“到 2024 年底，我們將開始從這里出貨 4 納米產品”。
相對地，英特爾計劃今年在亞利桑那州和俄亥俄州工廠量產 Intel 20A 和 18A 工藝。此外，臺積電正在美國建設三座晶圓廠，計劃 2025 年上半年投產 4nm 制程，2028 年投產 2/3nm 制程，2030 年投產 2nm 以下制程。
在 4 月舉行的第一季度業績發布會上，三星電子表示“我們正準備根據客戶訂單分階段啟動美國泰勒工廠的運營工作，預計將于 2026 年實現首次量產。”
得益于泰勒工廠，三星電子能夠從美國政府獲得 64 億美元（IT之家備注：當前約 464.98 億元人民幣）的補貼，到 2030 年總投資預計將超過 400 億美元（當前約 2906.15 億元人民幣）。對于泰勒工廠的工藝轉變是否會影響投資，我們還需拭目以待。